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它由紅外引入主體、多口真空室、溫度控制器等組成，能夠在高真空下對(duì)樣品進(jìn)行超高速加熱。
它有許多真空口，可用于多種實(shí)驗(yàn)。 |
| | 通過(guò)打開(kāi)和關(guān)閉真空室前門(mén)即可取出和取出樣品。 |
| [應(yīng)用]
- 真空和氣體環(huán)境中樣品的連續(xù)加熱和冷卻控制
- 樣品表面加熱和背面冷卻的快速升降溫測(cè)試（可選）
- 加壓氣氛中加熱（可選） |
| | 型號(hào)名稱(chēng) | GV1 | GV2 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 達(dá)到最高溫度 | 1300℃ | 1500℃ | | 加熱面積 | ～φ20mm | | 最大升溫速率 | 100～150℃/秒 | | 最大真空度 | 5× 10-5帕 | | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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| 它由紅外線(xiàn)導(dǎo)入加熱裝置、小型真空室、測(cè)溫樣品部、溫度控制器等組成。 |
| 通過(guò)從底部用紅外線(xiàn)照射真空室內(nèi)的樣品，可以清潔地加熱樣品并以超高速升高溫度。
您可以在樣品加熱時(shí)從腔室頂部的觀(guān)察窗觀(guān)察樣品并拍照。 |
| | 型號(hào)名稱(chēng) | RTA198 | RTA298 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 達(dá)到最高溫度 | 900～1000℃ | 1000～1300℃ | | 加熱面積 | ～φ20mm | | 最大真空度 | 5×10 -3帕 | 5× 10-5帕 | | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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| 它由超高真空紅外感應(yīng)加熱裝置、超高真空室、質(zhì)譜儀、電源/安全電路單元、真空排氣裝置組成，能夠?qū)悠樊a(chǎn)生的痕量氣體進(jìn)行質(zhì)譜分析達(dá)到高溫。 |
| | 紅外感應(yīng)加熱設(shè)備的熱源位于真空室外，不產(chǎn)生氣體，可以進(jìn)行清潔加熱，可以進(jìn)行高精度分析。 |
| | 型號(hào)名稱(chēng) | 病毒2H | | 紅外燈額定值 | 2千瓦 | | 達(dá)到最高溫度 | 1500℃ | | 加熱面積 | φ15mm | | 最大真空度 | 5× 10-6帕 | | 交貨目的地 | 京都大學(xué) |
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介紹三種非常適合在磁場(chǎng)中對(duì)樣品進(jìn)行熱處理的模型。
【特點(diǎn)】
- 由于采用紅外線(xiàn)傳輸加熱方式，樣品不受電磁感應(yīng)影響
- 只能對(duì)樣品進(jìn)行精準(zhǔn)加熱，磁體壁不被加熱。 |
| 也可以在真空或氣體氣氛中升高溫度。
可貼附于超導(dǎo)磁體及各種電磁鐵上。 |
| | 當(dāng)樣品溫度為1000℃時(shí)，孔內(nèi)壁溫度低于40℃。 |
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在高真空中進(jìn)行 X 射線(xiàn)照射時(shí)，樣品被加熱至超高溫度。
（紅外線(xiàn)從左上對(duì)角方向和右下對(duì)角方向照射，X射線(xiàn)從左側(cè)和水平方向照射。） |
| | 真空室安裝在XY工作臺(tái)、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)和旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上，可以在加熱、保持或冷卻樣品的同時(shí)從任何角度分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)。 |
| | 型號(hào)名稱(chēng) | GVL298-2S | | 紅外燈額定值 | 2kW×2 | | 達(dá)到最高溫度 | 1500℃ | | 加熱面積 | φ20mm | | 最大真空度 | 5× 10-4帕 |
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| | 送貨目的地：Spring-8 |
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紅外感應(yīng)加熱裝置與各種分析裝置結(jié)合使用。
左圖是X射線(xiàn)光電子能譜儀。 |
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這是將 GVL298 類(lèi)型安裝到 XPS 的示例。
通過(guò)紅外線(xiàn)照射對(duì)預(yù)真空室內(nèi)的樣品進(jìn)行加熱，除去樣品中所含的水分和氣體并進(jìn)行清潔。
樣品在超高真空中通過(guò)傳輸桿移動(dòng)到照片右側(cè)的XPS分析室，在那里接受X射線(xiàn)照射并進(jìn)行表面分析。 |
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